D10粒径:表示累积分布达到10%时所对应的粒径值,用于表征样品中细颗粒部分的尺寸水平。
D50粒径(中位径):表示累积分布达到50%时所对应的粒径值,是描述粉末平均粒度最常用的核心指标。
D90粒径:表示累积分布达到90%时所对应的粒径值,用于表征样品中粗颗粒部分的尺寸水平。
粒度分布宽度:通常通过Span值((D90-D10)/D50)或分布标准偏差来量化,反映颗粒大小的均匀性或分散程度。
比表面积:单位质量粉末的总表面积,与粒度成反比,对烧结活性和涂层性能有重要影响。
模态粒径:在频率分布曲线中对应最高峰的粒径值,表示出现概率最大的颗粒尺寸。
特定区间体积百分比:分析在指定粒径区间(如0-0.5μm, 0.5-1μm等)内颗粒所占的体积百分含量。
颗粒形貌评估:虽非直接粒度数据,但常结合图像法分析颗粒的球形度、长径比等,间接影响粒度测量结果。
团聚度分析:评估初级颗粒之间因范德华力等形成的软团聚或烧结颈连接的硬团聚程度。
粒度分布曲线:绘制体积/数量/表面积累积分布曲线及频率分布曲线,直观展示完整的粒度分布特征。
纳米级碳化钨粉:粒度范围通常在1纳米至100纳米之间,用于制备高性能纳米结构硬质合金或特殊涂层。
亚微米级碳化钨粉:粒度范围在0.1微米至1.0微米之间,是制备高硬度、高耐磨性硬质合金的关键原料。
细颗粒碳化钨粉:粒度范围在1.0微米至3.0微米之间,广泛应用于通用型硬质合金刀具和模具。
中颗粒碳化钨粉:粒度范围在3.0微米至6.0微米之间,常用于制造耐冲击工具和矿山工具。
粗颗粒碳化钨粉:粒度范围在6.0微米至20微米或以上,用于制造需要极高韧性和抗冲击性的工件。
混合粒度粉末:由两种或以上不同粒度的碳化钨粉末混合而成,以实现特定的材料性能设计。
掺杂碳化钨复合粉:掺有钴、镍、铬等粘结相或其他碳化物的复合粉末,需分析其中碳化钨相的独立粒度。
喷雾干燥造粒粉:为改善流动性而制成的球形团聚颗粒,需分析其二次粒粒度和一次晶粒尺寸。
回收碳化钨粉:从废硬质合金中回收再生的粉末,其粒度分布是评估其再利用价值的关键参数。
碳化钨涂层粉末:用于热喷涂、HVOF等工艺的粉末,其粒度直接影响涂层的沉积效率和性能。
激光衍射法:最常用的方法,基于颗粒对激光的散射角度与粒径相关的原理,测量速度快,重复性好,范围广。
动态光散射法:主要用于纳米级碳化钨粉的测量,通过分析颗粒布朗运动引起的散射光波动来测定粒径。
图像分析法:通过显微镜(光学或电子)获取颗粒图像,经软件处理直接统计成千上万个颗粒的尺寸和形貌。
沉降法(重力/离心):基于斯托克斯定律,根据颗粒在液体中的沉降速度来测定粒径,对亚微米及更粗颗粒有效。
电感应法(库尔特法):颗粒通过小孔时引起电阻变化,其脉冲幅度与颗粒体积成正比,精度高,适合计数和窄分布样品。
X射线衍射谱线宽化法:通过分析XRD衍射峰的宽化程度来计算晶粒尺寸(而非颗粒尺寸),适用于纳米晶评估。
氮吸附法(BET法):通过测量气体吸附量来确定粉末的比表面积,进而计算平均等效粒径(假设颗粒为球形)。
超声衰减谱法:通过测量超声波在悬浮液中传播的衰减谱来反演粒度分布,适合高浓度在线测量。
筛分法:传统机械筛分用于测定较粗(通常大于45微米)的碳化钨粉末的粒度分布,方法简单直观。
静态光散射法:与激光衍射法原理类似,但在更固定的角度测量散射光强,常用于校准和基础研究。
激光粒度分析仪:集成了激光器、检测器阵列和循环分散系统的核心设备,用于实现激光衍射法测量。
纳米粒度及Zeta电位分析仪:整合动态光散射和电泳光散射技术,专门用于纳米颗粒粒度和稳定性的分析。
扫描电子显微镜:提供高分辨率的颗粒形貌图像,是图像分析法的重要工具,尤其适用于观察亚微米和纳米颗粒。
静态图像分析系统:由光学显微镜、数码相机和专用图像处理软件组成,用于自动统计大量颗粒的尺寸和形状。
动态图像分析系统:颗粒在流动中连续被拍摄和分析,统计量更大,代表性更好,适合分析数十微米至毫米级的颗粒。
离心沉降式粒度仪:通过高速离心加速沉降过程,扩展了斯托克斯定律的应用范围,可测量亚微米颗粒。
库尔特计数器:基于电感应原理的精密仪器,提供基于体积的绝对粒径分布和颗粒计数,分辨率极高。
X射线衍射仪:配备全谱拟合或谢乐公式计算软件,用于测定碳化钨的晶粒尺寸,特别是纳米晶的尺寸。
比表面积及孔隙度分析仪:通过低温氮吸附原理,测量粉末的比表面积和孔径分布,进而计算平均粒径。
超声波粒度分析仪:利用超声衰减原理,适用于在线或旁线对高浓度浆料中的碳化钨粒度进行实时监测。
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